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CPU早已經(jīng)不只是CPU了!Intel酷睿Ultra詳解

談到電腦、手機等硬件的升級,近幾年我們都會用“擠牙膏”來形容新一代產(chǎn)品的性能表現(xiàn)。

確實在一年一更新的節(jié)奏下,通常產(chǎn)品的性能提升維持在10%~20%之間,鮮有就突破性進展。但每次技術上的躍遷,必標志著我們的世界又進入了一個嶄新時代。

隨著今年AI在個人用戶中的爆發(fā)式增長,不僅服務端出現(xiàn)了前所未有超強算力的AI GPU加速卡,而且在終端上,電腦的CPU也實現(xiàn)了技術上的全面躍遷。

CPU早已經(jīng)不只是CPU

提到CPU,我們的慣性思維,會認為他就是我們電腦的運算核心,我們會非常注重它的性能表現(xiàn)。但實際上,從十年前開始,我們電腦里的那個“黑疙瘩”,早已不單純地只具有CPU的功能。

CPU早已經(jīng)不只是CPU了!Intel酷睿Ultra詳解

早在2011年,英特爾第二代酷睿處理器(代號Sandy Bridge)就已經(jīng)將GPU及相關顯示輸出接口電路與CPU芯片集成在一個Die上。

此外,視頻編解碼器、信號處理器等各種專用加速單元也被集成入CPU,形成“系統(tǒng)級芯片”,這大幅提升了CPU的處理效率,并減少了對外圍芯片的依賴。

不過隨著芯片制造的工藝制程向著越來越精細的尺寸迭代升級,在物理特性上越來越逼近現(xiàn)有材料的性能極限,技術實現(xiàn)越來越困難,芯片制造成本急劇增加。為了能夠集成更多電路,同時又能有效控制良率和生產(chǎn)成本,就出現(xiàn)了Chiplet技術。

Chiplet技術是將一個大芯片拆分為多個小芯片(Chiplet),再通過先進封裝集成到一起。相比之下,SoC技術是在一塊晶圓上制造整個系統(tǒng)。而Chiplet可利用不同廠商的制造技術,讓各芯片獨立優(yōu)化,再組裝,完美結合性能與成本。被業(yè)界視為繼SoC之后,新一代系統(tǒng)級芯片解決方案。

雖然Intel最新的酷睿Ultra處理器不是第一款采用Chiplet設計的產(chǎn)品,但這次升級,標志著PC處理器正式進入了一個新的時代。

酷睿Ultra四芯合一

CPU早已經(jīng)不只是CPU了!Intel酷睿Ultra詳解

Intel最新Meteor Lake架構酷睿Ultra處理器主要集成了四顆不同制程工藝的小芯片,包括Compute Tile、Graphics Tile、SoC Tile和I/O Tile。

其中Compute Tile部分基于EUV技術的Intel 4制程工藝制造,而Graphics Tile、SoC Tile和I/O Tile則全部由積電代工,采用臺積電5nm和6nm制程工藝生產(chǎn),最后通過英特爾Foveros 3D封裝技術將他們連接到一起。

相比歷代的單一制程單一晶圓制造,Intel酷睿Ultra不僅在核心架構上實現(xiàn)了異構整合,而且首次采用了多源晶圓制造的方式??梢哉f是英特爾在工藝技術和芯片設計上的雙重突破。

作為全球最大的半導體公司,Intel一直堅持自主可控的芯片工藝技術。早期的摩爾定律推動其處理器性能穩(wěn)步增長,垂直一體化的封閉生態(tài)也成為其支配PC產(chǎn)業(yè)的基石。

CPU早已經(jīng)不只是CPU了!Intel酷睿Ultra詳解

但是,在芯片制造進10納米后,Intel工藝技術開始明顯落后競爭對手。光刻機物理極限、介電層難題等障礙大幅拖累其迭代速度。

而TSMC等專注晶圓制造的專業(yè)代工廠在7nm/5nm節(jié)點上不斷突破。這迫使Intel開始推動策略性轉型,提出了“四年五個制程節(jié)點”計劃。即通過在四年內(nèi)推進Intel 7、Intel 4、Intel 3、Intel 20A和Intel 18A五個制程節(jié)點,于2025年重獲制程領先性。

在該計劃的順利推動下,酷睿Ultra處理器中Compute Tile部分使用了Intel 4制程工藝。同時全新的小芯片設計,在多個制程工藝優(yōu)勢的協(xié)同整合下,為Intel重回制程領先爭取到寶貴的時間。而chiplet模式也預示著半導體產(chǎn)業(yè)將呈現(xiàn)跨廠商、跨國界的高度協(xié)作與共生格局。

Intel歷代處理器使用的工藝制程和關鍵技術:

1971年4004使用10微米PMOS工藝

1978年8086使用3微米HMOS工藝

1985年80386使用1.5微米HMOS工藝,首次引入32位

1989年80486使用1微米工藝,集成晶體管數(shù)突破100萬

1993年Pentium使用0.8微米BiCMOS工藝

1997年Pentium II使用0.35微米CMOS工藝

2000年Pentium III使用0.18微米Coppermine工藝

2006年Core 2使用65納米工藝,高K金屬柵極

2011年第2代酷睿,32納米工藝,CPU集成GPU

2012年第3代酷睿,22納米工藝,三柵級FinFET技術

2017年第8代酷睿,14納米++工藝,Tick工藝節(jié)點出現(xiàn)了較大的延遲

2019年第10代酷睿,10納米、14納米混用

2021年第12代酷睿,Intel 7(10納米)工藝,CPU采用性能混合架構,大小核設計

2024年酷睿Ultra,Intel 4(7納米)工藝,分離式模塊化設計,首次采用多源晶圓制造


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